Sputtering kaplamaları için özel metalik hedef Tek veya çoklu yapılandırma Ra 0.8 Um

Ürün Tanımı:

Metal püskürtme hedefi, güçlü ve dayanıklı bir bağ oluşturan indiyum kullanılarak yapıştırılır.Yüksek kaliteli ince filmlerin üretimi için gerekli olanHedef, üretilen filmlerin en yüksek kalitede olmasını sağlayan% 99.99 saflığa sahiptir.

Metal Sputtering Hedefi, çok çeşitli substratlarla uyumludur ve uygulamanızın özel gereksinimlerini karşılamak için özelleştirilebilir.Bu, çeşitli uygulamalar için ideal bir seçim yapar., karbon çelik I kirişlerine, H kirişli çeliklere ve diğer substratlara ince filmlerin çökmesi dahil.

Metal Sputtering Hedefi, mükemmel yapışkanlık ve film kalitesini elde etmeyi mümkün kılan özelleştirilmiş bir yoğunluğa sahiptir. Hedefin yüksek yoğunluğu ayrıca uzun ömürlü olmasını sağlar,Sık sık değiştirme ve bakım gereksinimini azaltan.

İster yarı iletken endüstrisi, ince film endüstrisi veya yüksek kaliteli püskürtme hedefleri gerektiren başka bir endüstride çalışın, Metal püskürtme hedefimiz mükemmel bir seçimdir.Güvenilir bir, dayanıklı ve verimli bir ürün, üretim hedeflerinize ulaşmanıza ve müşterilerinizin ihtiyaçlarını karşılamanıza yardımcı olacaktır.

Özellikleri:

• Ürün Adı: Metal Sputtering Hedefi
• Yüzey Kabalığı: Ra < 0.8 Um
• Malzeme: Metal
• Şekil: Yuvarlak
• Hedef Bağlantısı: Indium
• Kristal Yapısı: Özel

Metal Sputtering Target ürünü aşağıdaki uygulamalarda kullanın:

• Elektrostatik toz kaplama tabancası
• Endüstriyel Metal Detektörü Taşıyıcı
• El metal dedektörü

Teknik parametreler:

Uygulamalar:

Metal Sputtering Hedefi, Karbon Çelik I Çubuk, Alaşımlı Çelik Metal ve diğer benzer malzemeler de dahil olmak üzere çok çeşitli substratlarla uyumludur.Bu, çeşitli endüstriyel uygulamalarda kullanılabilen çok yönlü bir üründür.Üretilen ince filmlerin yüksek kaliteli ve tutarlı özelliklere sahip olmasını sağlayan% 99.99 saflığa sahiptir.

Metal Sputtering Hedefi, Sputtering süreci sırasında substratla güçlü bir yapışmayı sağlayan Indium ile bağlanır.Bu, güvenilir ve istikrarlı bir çökme süreci gerektirdiği uygulamalarda kullanılmak için ideal bir üründür..

Metal Sputtering Hedefi, silikon levhalar üzerindeki ince filmlerin üretimi için yarı iletken endüstrisinde yaygın olarak kullanılır.ve diğer elektronik cihazlarEk olarak, havacılık endüstrisinde uçak bileşenlerinde kullanılan gelişmiş malzemelerin üretimi için kullanılır.

Metal Sputtering Hedefi, tıbbi cihazlarda kullanılan ince filmlerin üretimi için tıbbi endüstride de kullanılabilir.Otomobil parçalarının yüzeyini korozyondan ve aşınmadan koruyan kaplamaların üretimi için otomotiv endüstrisinde de kullanılır.

Özetle, Metal Sputtering Hedefi, çok çeşitli endüstriyel uygulamalarda kullanılabilen çok yönlü bir üründür.Altyapı uyumluluğu, yüksek saflık düzeyi ve Indium bağlaması, yarı iletken, havacılık, tıbbi ve otomotiv endüstrilerinde kullanılmak için ideal bir ürün haline getirir.

Özellik:

Metal püskürtme hedefimiz, özel ihtiyaçlarınızı karşılamak için özelleştirilebilir.

• Hedef Yapılandırması: Tek veya Çoklu hedefler gereksinimlerinize göre yapılandırılabilir.
• Malzeme: Hedeflerimiz yüksek kaliteli metal malzemelerden yapılır.
• Hedef Bağlama: En iyi performans için indiyum bağlama mevcuttur.
• Teknik: Hedeflerimiz doğruluk ve dayanıklılık için dövülür ve CNC işlenir.
• Kristal yapısı: Özel uygulama ihtiyaçlarınızı karşılamak için özelleştirilmiş kristal yapılar mevcuttur.

Ek olarak, ürününüzü daha da özelleştirmek için 3 boyutlu metal tozu baskı, endüstriyel metal dedektör taşıyıcı ve taşıyıcı metal dedektör makinesi hizmetleri sunuyoruz.

Destek ve Hizmetler:

Metal Sputtering Hedef ürünlerinin teknik desteği ve hizmetleri şunları içerir:

• Özel uygulamalar için hedef seçimi ve özelleştirme konusunda uzman danışmanlığı
• Hedef kurulum ve bakım konusunda yardım
• Detaylı ürün özellikleri ve performans verileri
• Teknik sorun giderme ve sorun çözme
• Hedef bağlama hizmetleri
• Sputtering işlemleri ve ekipmanları hakkında eğitim ve eğitim
• Ürün garantisi ve onarım hizmetleri