İndyum Alaşımı Sputtering Hedefi Özel Substratlarla Poli ve Anodizasyon

Ürün Tanımı:

Metal püskürtme hedefi ürünümüz, metal çökme işleminiz için pürüzsüz ve temiz bir yüzey sağlayan cilalanmış ve anodlanmış bir yüzeye sahiptir.Bu ürünün özelleştirilmiş substrat uyumluluğu özelliği, piyasada bulunan diğer metal püskürtme hedeflerinden farklı kılan şeydir.Bu özellikle, bu ürünün daha verimli ve etkili bir çökme süreci sağlayarak belirli substrat malzemenizle uyumlu olduğundan emin olabilirsiniz.

Metal püskürtme hedefi ürünümüz sadece çok yönlü değil aynı zamanda dayanıklıdır.Uzun süre amaçlarına hizmet edeceğinden emin olmak.Dayanıklılığı, metal parçacıklarının etkisine dayanabildiği serbest düşme metal dedektöründe kullanıldığında da kanıtlanmıştır.

Bugün metal püskürtme hedefi ürünümüzü elde edin ve metal çökme işleminizdeki farkı deneyimleyin.özel yoğunluk ve kristal yapısı, ve özelleştirilmiş alt katman uyumluluğu, metal çökme ihtiyaçlarınız için mükemmel bir seçim yapar.

Özellikleri:

• Ürün Adı: Metal Sputtering Hedefi
• Kalıplama Süreci: Sıcak Izostatik Baskı ((HIP)
• Hedef Yapılandırması: Tek veya Çoklu
• Yüzey Kabalığı: Ra < 0.8 Um
• Kalınlığı: 10-600mm
• Kristal Yapısı: Özel

Teknik parametreler:

Uygulamalar:

Metal Sputtering Target ürünü, uygulamanın özel gereksinimlerine bağlı olarak tek veya birden fazla konfigürasyonda mevcuttur.hedef ile destek plaka arasında güçlü bir bağ sağlarBu, ürünün sıklıkla püskürtme uygulamalarıyla ilişkili olan yüksek enerjili iyon bombardımanına dayanabilmesini sağlar.

Metal Sputtering Target ürünü, çok çeşitli senaryolarda kullanılmak için idealdir. Örneğin, H Beam Steel,Çeliklerin farklı bir malzemeden ince bir katmanla kaplanması için kullanılırBu, çeliklerin dayanıklılığını ve performansını iyileştirmeye yardımcı olur ve geniş bir uygulama yelpazesinde kullanılmak için idealdir.

Ürün aynı zamanda Konveyör Metal Detektör Makinelerinin üretiminde de kullanılabilir.Metal Sputtering Target ürünü, taşıyıcı kemerin yüzeyine yerleştirilen ince bir film oluşturmak için kullanılır.İnce film, metal dedektörünün hassasiyetini arttırmaya yardımcı olur ve bu sayede konveyör bandında bulunabilecek metal nesneleri tespit etmede daha etkili olur.

Metal Sputtering Target ürünü, Ra < 0.8 Um yüzey kabalığı ile tasarlanmıştır.Yüksek kaliteli püskürtme sonuçlarına ulaşmak için gerekli olanÜrün ayrıca yüksek dayanıklılık için tasarlanmıştır, bu da sıklıkla püskürtme uygulamalarıyla ilişkili olan yüksek enerjili iyon bombardımanına dayanabilmesini sağlar.

Özellik:

Metal Sputtering Target ürününüzü ürün özelleştirme hizmetlerimizle özelleştirin.

Kristal yapısı:Özel

Yüzey:Poliş edilmiş,Anodizasyon

Saflık:99.99%

Kaplama yöntemi:Çöplükleme

Teknik:Kırılmış ve CNC İşlemli

Elektrostatik Toz Kaplama Silahımızla hedefiniz hem tutarlı hem de dayanıklı yüksek kaliteli bir kaplamaya sahip olacak.Ürününüzün herhangi bir kirlilikten arınmış olduğundan emin olabilirsinizSize özel bir Metal Sputtering Hedefi oluşturmanıza yardım edelim.

Destek ve Hizmetler:

Metal püskürtme hedeflerimiz en yüksek kalite standartlarına göre üretilir ve çeşitli malzemelerde ve boyutlarda mevcuttur.Teknik destek ekibimiz ürünlerimizin kullanımı ile ilgili herhangi bir soru veya sorunla size yardımcı olmak için mevcuttur.Hedef bağlama, hedef geri dönüşüm ve özel hedef üretim de dahil olmak üzere bir dizi hizmet sunuyoruz.Amacımız müşterilerimize en iyi deneyimi sağlamak için bizim Metal Sputtering Hedefleri kullanırken.