Yarı iletken endüstrisinde kullanılan Titanyum Püskürtme Hedefi
Titanyum püskürtme hedefleri, yarı iletken endüstrisinde ince filmlerin silikon gofretler üzerine biriktirilmesi için yaygın olarak kullanılmaktadır.İnce filmler, transistörler, diyotlar ve entegre devreler gibi mikroelektronik cihazların üretiminde kullanılır.İşte bazı özel yollartitanyum püskürtme hedefleriyarı iletken endüstrisinde kullanılır:
Kapı elektrotları: Titanyum püskürtme hedefleri, metal oksit yarı iletken alan etkili transistörlerde (MOSFET'ler) kapı elektrotları oluşturmak için ince titanyum filmlerini silikon gofretler üzerine biriktirmek için kullanılır.Bu kapı elektrotları, MOSFET'lerdeki elektrik akımının akışını kontrol etmek için kullanılır.
ara bağlantılar: Titanyum püskürtme hedefleri, entegre devrelerde ara bağlantılar oluşturmak için ince titanyum filmlerini silikon gofretler üzerine biriktirmek için kullanılır.Bu ara bağlantılar, entegre devrelerin farklı bileşenlerini bağlamak için kullanılır ve bunların çalışması için gereklidir.
difüzyon bariyerleri: Titanyum püskürtme hedefleri, entegre devrelerde difüzyon bariyerleri oluşturmak için ince titanyum nitrür (TiN) filmlerini silikon levhalar üzerine biriktirmek için kullanılır.Bu difüzyon bariyerleri, entegre devrelerin performansının düşmesine ve arızalanmasına neden olabilecek metallerin silikona difüzyonunu önlemek için kullanılır.
Dağlama maskeleri: Titanyum püskürtme hedefleri, aşındırma maskeleri oluşturmak için ince titanyum filmlerini silikon gofretler üzerine biriktirmek için kullanılır.Bu aşındırma maskeleri, entegre devrelerde belirli desenler ve özellikler oluşturmak için kullanılan aşındırma işlemi sırasında silikon gofretlerin belirli alanlarını korumak için kullanılır.
Özetle,titanyum püskürtme hedefleriyarı iletken endüstrisindeki temel malzemelerdir ve geçit elektrotları, ara bağlantılar, difüzyon bariyerleri ve dağlama maskeleri dahil olmak üzere çok çeşitli uygulamalar için kullanılırlar.